先進爾維科技股份有限公司|二維半導體材料
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有鑑於二維半導體是下世代革命性新材料,將應用於邏輯積體電路、生醫感測器、超高速記憶體、柔性電子、無線傳輸等應用領域,並且可與第三代半導體氮化鎵及碳化矽元件技術整合,深具發展潛力。
先進爾維科技成立於2024年2月,率先投入二維半導體材料以及應用技術市場,為下世代產業技術發展盡一份心力。
秉持著科技、創新、與合作之經營理念,除了投入前瞻二維半導體技術發展,同時將與產業界密切合作,以二維半導體協助科技產業升級,提高競爭力, 共創雙贏 !
公司設立
成立於2024年2月
資本額7510萬元
員工人數10人
專利
申請中20件
獲證18件
先進技術
晶圓尺寸二維半導體
二維半導體應用元件
CVD/ALD成長設備
Applied research
二維半導體潛力應用研究領域
新穎二維半導體材料
TMDs: MoS2, WS2, WSe2..
Large wafer scale: 2”, 4’, 6”
High uniformity
High Quality
先進成長設備
Gas precursor CVD
PEALD
先進製程開發整合
Integration with GaN and SiC
Process development for IoT, flexible electronics, bio-sensor etc.
2D semiconductor
二維半導體
2D semiconductor
二維半導體
技術發展路線
二維材料
研究領域
應用方式
Product
產品
Multi-layer Continuous Film of MoS2
4 inch MoS2 on Sapphire
2 inch MoS2 on Sapphire
可提供學術優惠價(歡迎洽詢)
Multi-layer Continuous Film of WS2
4 inch WS2 on Sapphire
2 inch WS2 on Sapphire
可提供學術優惠價(歡迎洽詢)
Multi-layer Continuous Film of WSe2
4 inch WSe2 on Sapphire
2 inch WSe2 on Sapphire
可提供學術優惠價(歡迎洽詢)
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